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ASML正研发新EUV光刻机 微缩分辨率/套准精度提升70%
半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻，光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中，台积电之所以能够领先，一
发布时间：
2019-07-04 16:12
学院
2019-07-04
